有关研究表明，靶的刻蚀及其深度与等离子体的浓度成正比关系，洛阳溅射磁控镀膜设备，

而等离子体浓度与空间中的磁场分布有着密切相连的关系。由此可见，

靶的刻蚀主要受靶表面的等离子体的影响，等离子体由磁体产生的磁场

分布决定，溅射磁控镀膜设备价钱，提高靶材利用率的关键是调整磁场结构。显然增加磁场均匀

性能够增加靶面刻蚀的均匀性，从而延长靶的寿命、提高靶材的利用

率，而且合理的电磁场分布还能够有效地提高溅射过程的稳定性。可以

根据靶面磁力线分布来分析靶表面的刻蚀情况，使等离子体存在于更大

的靶面范围，实现靶面的均匀溅射。

苑郾 员郾 员摇 普通镀膜设备用典型高真空系统

如果对镀膜工艺环境没有特殊的无油清洁要求，则镀膜机可采用如

图苑鄄员所示的通用真空系统。系统的主泵是油扩散泵，溅射磁控镀膜设备生产，泵上方设有水冷

挡板（阱），主泵的前级泵为机械泵或罗茨泵机组。这种系统的工作压力

在员园 原圆 耀员园 原源 孕葬 范围内。

另一个是如图缘鄄远 所示的将测得的温度信号导出真空室的滑环电刷装

置。由于每根鼓基轴都在不停转动，所以选两根对称位置的轴来测温即

可。在该轴上对应每个鼓基都安装一个测温装置，同一轴上几个测温装

置可共用一套滑环电刷。

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