溅射靶磁场的初始设计对靶材利用率、溅射速率、薄膜沉积速率和沉积效率及膜厚均匀性都有密切的影响。磁场设计的目标在于得到比较高的靶材利用率（溅射区域的均匀和扩展）、较高的溅射速率和功率效率。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

对于矩形磁控溅射靶来说，海口溅射镀膜机，由于矩形平面磁控靶不像圆形磁控靶那样具有中心对称的性质，阴极靶内的永磁体沿着靶长度方向排列成行，形成以中心线为对称轴的两个磁场。这两个磁场在靶的长度方向上的分布比较均匀，溅射镀膜机定做，但是在靶的宽度方向上是不均匀的（所以单纯从刻蚀均匀性考虑，靶的宽度越小越好），因此膜厚的分布在沿靶宽度和长度两个方向并不相同。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

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