金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，真空磁控溅射靶材， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项

靶材清洁

靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。

金属靶材可以通过四步清洁，

第1步用在酒精中浸泡过的无绒软布清洁；

第2步与第1步类似用酒精清洁；

第3步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。  氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。

第4步在清除完有污垢的区域后，再用高压低水气的氩气冲洗靶材， 以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒.

靶材安装  

靶材安装过程中最重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲，背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响，导致在溅射过程中热量无法散发最终会造成靶材开裂或脱靶 为确保足够的导热性，靶材，可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的平整度，同时确保O型密封圈始终在位置上。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

金属靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，稀土合金靶材， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材的要求较传统材料行业高，钼铝钼靶材，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。

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