溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材的发展

      各种类型的溅射靶材薄膜材料在半导体集成 电路 (VLSI) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代 以来，磁控溅射靶材，溅射靶材及溅射技术的同步发展，靶材，极大地满足了各种新 型电子元器件发展的需求。例如，碳化钛溅射靶材，在半导体集成电路制造过程中，铜镍合金靶材，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝 膜布线：在平面显示器产业中，各种显示技术 (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步发展，有的已 经用于电脑及计算机的显示器制造；在信息存储产业中，磁性存储器的存储容量不断增加，新的磁光记录材料不断推陈出新 这些都对所需溅射靶材的质量提 出了越来越高的要求，需求数量也逐年增加。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

金属靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。

石久高研专注15年提供高纯靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~

碳化钛溅射靶材,石久高研(在线咨询),靶材由北京石久高研金属材料有限公司提供。“光学镀膜材料 , 合金靶材 , 二氧化钛 , 高纯材料 , ”就选北京石久高研金属材料有限公司（shijiugaoyan168.b2b.hc360.com），公司位于：北京市昌平区马池口镇上念头村北南路北侧国储金属材料交易市场B座商业楼222号，多年来，石久高研坚持为客户提供优质的服务，联系人：史永泰。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。石久高研期待成为您的长期合作伙伴！