一般来说，溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成，其中，靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，在溅射镀膜过程中，溅射靶材生产商，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜;由于高纯度金属普遍较软，而溅射靶材需要安装在的机台内完成溅射过程，机台内部为高电压、高真空环境，因此，背板主要起到固定溅射靶材的作用，且需要具备良好的导电、导热性能。原材料供应商了，溅射靶材，有硅片（基础的，所有东西都是在这上面制作的）有气体，化学品，这三样都是大头，溅射靶材直销，年采购额能在晶圆厂原材料采购支出里占60％以上，溅射靶材批发，还有靶材呀（薄膜和后道要用的）石英啊（炉管）之类的。这些，国内也能做一部分，但是大头还是在国外那几个大公司手里。我就每样说几个：硅片有许多韩国日本厂做CO个别欧洲厂（比较贵），国内有有色金属研究所下属的企业可以做，质量一般。