扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一，真空扩散炉， 常用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，由四部分组成：控制柜、推舟净化台、电阻加热炉和气源柜。

扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一，它的主要用途是对半导体进行掺杂，扩散炉生产厂家，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，扩散炉供应，以便建立起不同的电特性区域。

扩散炉是半导体加工中的典型热处理设备，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

扩散炉特点

1、软着陆载片装置，上海扩散炉，避免了SiC桨的遮挡影响，提高了扩散均匀性。

2、新型炉体设计，提高了温度稳定性。

3、高精度温控仪，保证工艺过程中温度的快速稳定。

4、仿国外技术、关键部件全部进口，从而保证成膜质量。

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