扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散炉由控制系统、进出舟系统、炉体加热系统和气体控制系统等组成。

控制系统:控制部分包括：温控器、功率部件、超温保护部件、系统控制。系统控制部分有四个独立的计算机控制单元，分别控制每层炉管的推舟、炉温及气路部分，合肥扩散炉，是扩散/氧化系统的控制中心。

扩散炉是半导体器件及大规模集成电路制造过程中用于对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的一种热加工设备。

扩散炉是半导体集成电路工艺的基础设备，真空扩散炉，它与半导体工艺互相依存、互相促进、共同发展。

扩散炉主要是完成半导体元器件的扩散，氧化、退火、钎焊等工艺，真空扩散炉价格，具有应用范围广，安全可靠、控制精度高等特点。温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，温度控制具有良好的稳定性、重复性。

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