日韩贸易战中，日本列入限制出口名单的高纯度材料，其主要用途为半导体的湿式刻蚀。典型的单晶硅片加工工艺流程为：晶棒裁切-切段-切方-滚磨-抛光-切割-清洗-检验-包装。靶材公司拥有完整的硅材料检测手段，在居里点，如果把铁磁材料加热到其居里温度之上，铁磁材料转变为顺磁材料，其磁效应将消失，材料将得到解决。这种方法的缺点是需要一个加热装置来维持铁磁靶材温度在其居里点之上，并要对铁磁靶的温度实时监测。另外，在400℃~1100℃，如果把靶材加热至该温区可能导致无法在基片上成膜，或损坏其他真空部件。150℃~200℃将产生退磁现象，而无法恢复原有磁性。采用对靶磁控溅射系统，磁性膜，且不必大幅度升高基片温度。用来制备磁性Fe、Ni及其磁性合金膜。

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合金靶材的溅射原理：

   对溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过程，形成薄膜。触摸屏溅射靶材,来宾溅射靶材,尤特168(查看)由广州市尤特新材料有限公司提供。行路致远，砥砺前行。广州市尤特新材料有限公司（www.uvtm.com/）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为其它较具影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!