溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材原理: 以pld为例,因素主要有:靶材与基片的晶格匹配程度 镀膜氛围(低压气体氛围) 基片温度 激光器功率 脉冲频率 溅射时间 对于不同的溅射材料和基片,尽量参数需要实验确定,溅射靶材报价,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否准确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年,碳化钛溅射靶材, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材的主要性能要求:
为了减少靶材固体中的气孔,溅射靶材,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~