扩散炉是研制生产晶体管、可控硅和集成电路等半导体器件的工艺设备之一，主要用于扩散和氧化等工序。

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扩散炉是半导体器件(如晶体管、晶闸管和集成电路)的工艺设备之一，主要用于扩散和氧化过程。扩散炉主要由控制部分、净化部分、电阻加热炉段和气路部分组成。控制部分主要控制船舶的出入口，福州扩散炉，电阻加热炉主要是扩散炉的温度控制，而气路主要控制扩散源的排放和废气排放。扩散炉是一种自动控制温度的电阻炉。它由温度控制器、晶闸管设备和熔炉组成。该炉由绝缘材料、加热丝和炉管组成。温度控制器的控制装置可以自动控制炉温，使炉温保持稳定，甚至达到技术要求。

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