金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材使用指南及注意事项
靶材清洁
靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。
金属靶材可以通过四步清洁,
第1步用在酒精中浸泡过的无绒软布清洁;
第2步与第1步类似用酒精清洁;
第3步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。 氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。
第4步在清除完有污垢的区域后,再用高压低水气的氩气冲洗靶材, 以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒.
靶材安装
靶材安装过程中最重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲,背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响,导致在溅射过程中热量无法散发最终会造成靶材开裂或脱靶 为确保足够的导热性,可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的平整度,同时确保O型密封圈始终在位置上。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
科技部发布新材料技术超高纯铝靶材项目申请
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年,铬铁合金厂家, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
科技部发布新材料技能超高纯铝靶材项目请求
据科技部音讯:物理汽相堆积(PVD)是半导体芯片和TFT-LCD生产进程中最关键的技能之一,PVD用溅射金属靶材是半导体芯片生产及TFT-LCD制备加工进程中最重要的原材料之一,溅射金属靶材中用量很大的是超高纯铝和超高纯洁铝合金靶材。
由此可见,研制具有自主知识产权的大尺度超高纯铝靶材的制造关键技能,开宣布满意半导体职业及TFT-LCD工业需要的超高纯铝靶材商品,关于中国有关工业的展开具有重要意义。
为公平、公平、公开地挑选项目承担单位,充分调动有关企业、科研院所及高等院校的积极性,集成全国在铝的精炼提纯、大尺度铝板形变加工及溅射金属靶材专业制备等范畴的优势研制力量展开本项意图作业,科技部发布了《国家高技能研讨展开方案(863方案)新材料技能范畴“大尺度超高纯铝靶材的制造技能”重点项目请求指南》。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材的发展
各种类型的溅射靶材薄膜材料在半导体集成 电路 (VLSI) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代 以来,溅射靶材及溅射技术的同步发展,铬铁合金,极大地满足了各种新 型电子元器件发展的需求。例如,在半导体集成电路制造过程中,以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝 膜布线:在平面显示器产业中,各种显示技术 (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步发展,铬铁合金公司供应商,有的已 经用于电脑及计算机的显示器制造;在信息存储产业中,磁性存储器的存储容量不断增加,新的磁光记录材料不断推陈出新 这些都对所需溅射靶材的质量提 出了越来越高的要求,需求数量也逐年增加。
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