真空镀膜靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶中毒的影响因素

影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下，参与化合物生成的反应气体量增加，铝镁合金厂家，化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度，化合物覆盖面积增加，如果不能及时调整反应气体流量，铝镁合金，化合物覆盖面积增加的速率得不到抑制，溅射沟道将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，铝镁合金品牌，靶完全中毒，在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。

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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项

  溅射准备

保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。  为保持镀膜的成分特性，铝镁合金报价，溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。  暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气清除腔体四周前期溅射剩余物，再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后， 再用酒精去离子水清洗，同时建议使用工业吸尘器进行辅助清洁。  高展金属生产的靶材采用真空密封塑料袋包装， 内置防潮剂。使用靶材时请不要用手直接接触靶材。

注意：使用靶材时请配带干净而且不会起绒的保护手套，一定要避免用手直接接触靶材

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溅射靶材

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   靶材选择规程

分类：1.薄膜应用分类[1]:半导体功能（HfO2）、磁记录、巨磁电阻（稀土合金或氧化物类）、显示技术（ITO）、超导（Y2BaCu3O7）；2.材料组成：金属（合金）、氧化物类（Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等）、氟化物类（MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等）、其它化合物类（ZnS、ZnSe、PbTe等）。

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