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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

解决溅射过程中的微粒飞溅

溅射镀膜的过程中, 致密度较小的溅射靶受轰击时, 由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放, 造成大尺寸的靶材颗粒或微粒飞溅, 或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅。这些微粒的出现会降低薄膜品质。如在VLSI 制作工艺过程中,每150 mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样解决溅射靶材在溅射过程中的微粒飞溅也是今后研究与设计靶材的发展方向之一。一般来说, 粉末冶金工艺制备的溅射靶材大都存在致密度低的问题,容易造成微粒飞溅。因此,对熔融铸造法制备的靶材,可采用适当的热加工或热处理来提高其致密度;而对粉末冶金溅射靶材则应提高原料粉末纯度,并采用等离子烧结、微波烧结等快速致密化技术,以降低靶材孔隙率。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~






科技部发布新材料技术超高纯铝靶材项目申请

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,五氧化二钽多少钱,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。


科技部发布新材料技能超高纯铝靶材项目请求

据科技部音讯:物理汽相堆积(PVD)是半导体芯片和TFT-LCD生产进程中最关键的技能之一,PVD用溅射金属靶材是半导体芯片生产及TFT-LCD制备加工进程中最重要的原材料之一,溅射金属靶材中用量很大的是超高纯铝和超高纯洁铝合金靶材。

由此可见,研制具有自主知识产权的大尺度超高纯铝靶材的制造关键技能,开宣布满意半导体职业及TFT-LCD工业需要的超高纯铝靶材商品,关于中国有关工业的展开具有重要意义。

为公平、公平、公开地挑选项目承担单位,充分调动有关企业、科研院所及高等院校的积极性,集成全国在铝的精炼提纯、大尺度铝板形变加工及溅射金属靶材专业制备等范畴的优势研制力量展开本项意图作业,科技部发布了《国家高技能研讨展开方案(863方案)新材料技能范畴“大尺度超高纯铝靶材的制造技能”重点项目请求指南》。


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抗污膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

抗污膜(顶膜)

    (1)原理

镜片表面镀有多层减反射膜后,镜片特别容易产生污渍,而污渍会破坏减反射膜的减反射效果。在显微镜下,我们可以发现减反射膜层呈孔状结构,所以油污特别容易浸润至减反射膜层。解决的方法是在减反射膜层上再镀一层具有抗油污和抗水性能的顶膜,而且这层膜必须非常薄,以使其不会改变减反射膜的光学性能。

(2)工艺

抗污膜的材料以氟化物为主,有二种加工方法,一种是浸泡法,一种是真空镀膜,而最常见的方法是真空镀膜。而最常用的方法是真空镀膜。当减反射膜层完成后,可使用蒸发工艺将氟化物镀于反射膜上。抗污膜可将多孔的减反射膜层覆盖起来,五氧化二钽报价,并且能够将水和油与镜片的接触面积减少,五氧化二钽,使油和水滴不易粘附于镜片表面,因此也称为防水膜。

对于有机镜片而言,理想的表面系统处理应该是包括抗磨损膜、多层减反射膜和顶膜抗污膜的复合膜。通常抗磨损膜镀层最厚,约为3-5mm,多层减反射膜的厚度约为0.3um,顶层抗污腊镀最薄,约为0.005-0.01mm。以法国依视路公司的钻晶(crizal),复合膜为例,在镜片的片基上首先镀上具有有机硅的耐磨损膜;然后采用IPC的技术,用离子轰击进行镀减反射膜前的预清洗;清洗后采用高硬度的二氧化锆(ZrO2)等材料进行多层减反射膜层的真空镀制;最后再镀上具有110的接触角度的顶膜。钻晶复合膜技术的研制成功表明了有机镜片的表面处理技术达到了一个新的高度。

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石久高研(图),五氧化二钽多少钱,五氧化二钽由北京石久高研金属材料有限公司提供。北京石久高研金属材料有限公司(shijiugaoyan168.b2b.hc360.com)是一家专业从事“光学镀膜材料 , 合金靶材 , 二氧化钛 , 高纯材料 , ”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,稳健经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“石久高纯靶材”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上,用户至上”的原则,使石久高研在其它中赢得了众的客户的信任,树立了良好的企业形象。 特别说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!

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