光氧催化设备之光催化氧化技术发展史

自1983 年起，光氧催化设备定做，A.L.Pruden和D.Follio就烷烃、烯烃和芳香烃的氯化物等一系列污染物的光催化氧化作了连续研究，发现反应物都能迅速降解。

1989 年，Tanaka.K 等人研究发现有机物的半导体光催化过程由羟基自由基（OH）引起，深圳光氧催化设备，在体系中加入H2O2可增加OH的浓度。

进入了90 年代，随着纳米技术的兴起和光催化技术在环境保护、卫生保健、有机合成等方面应用研究的发展迅速，纳米量级的光催化剂的研究，已经成为国际上最活跃的研究领域之一。

光氧催化设备之光催化氧化技术分类

光氧催化设备的光催化氧化技术是在光化学氧化技术的基础上发展起来的。光化学氧化技术是在可见光或紫外光作用下使有机污染物氧化降解的反应过程。但由于反应条件所限，光氧催化设备直销，光化学氧化降解往往不够彻底，光氧催化设备批发，易产生多种芳香族有机中间体，成为光化学氧化需要克服的问题，而通过和光催化氧化剂的结合，可以大大提高光化学氧的效率。

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