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靶材的主要性能要求

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材的主要性能要求

      纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,镍铜合金厂家,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~






溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

铝靶材的生产方法:1、铝的生产和提纯[2]  :铝是从铝土矿中提取Al2O3,再在熔融冰晶石中电解而得到的,纯度一般在99%以上,但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料,铝靶材对铝材的第1个要求也是最重要的要求就是纯度要高,镍铜合金批发价格,铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的,价格要比工业纯铝99.7贵很多,目前国内高纯度在99.9999%(6N)左右。2、铝靶材的变形处理:有了高纯度铝锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。3、对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工,铝靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,镍铜合金批发,铝靶材与镀膜机多以螺纹相连接。

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减反射膜

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原理

减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同,波长相同的光波叠加,那么光波的振幅增强;如果二个光波原由相同,波程相差,如果这二个光波叠加,那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理,在镜片的表面镀上减反射膜,使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰,从而抵消了反射光,达到减反射的效果。

1)振幅条件

膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。

2)位相条件

膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时,d=555/4=139nm

对于减反射膜层,许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波(波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄(〈139nm),反射光会显出浅棕黄色,如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚( 〉139nm)。

镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射,但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色,但残留颜色哪种是好的,河北镍铜合金,其实并没有标准,目前主要是以个人对颜色的喜好为主,较多为绿色的色系。

我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同,因此在镜片中央部分呈绿色,而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。

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