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真空电镀镀膜膜层的耐腐蚀性差是什么原因?

可能是厂家的镀膜工序中的镀膜工步未开启,造成产品表面没有保护膜造成的;

真空室内硅油通入的管路更换不及时,表面针孔被废铝渣堵塞,造成硅油实际通入量与设定值不符;

镀膜时的电功率、硅油通入时间以及油量等等的时间设置不合理;

如何提高真空电镀膜层的耐腐蚀性?

真空电镀前可以对产品进行打底层,防止氧化;

一定要定期更换电镀打磨机,不然会影响电镀质量,降低产品的耐腐蚀性;

针对不同的产品选用不同的工艺,对症下药;








电镀品质标准-盐雾试验标准与规范

腐蚀是材料或其性能在环境的作用下引起的破坏或变质。大多数的腐蚀发生在大气环境中,大气中含有氧气、湿度、温度变化和污染物等腐蚀成分和腐蚀因素。盐雾腐蚀就是一种常见和最有破坏性的大气腐蚀。

1)评级判定法是把腐蚀面积与总面积之比的百分数按一定的方法划分成几个级别,以某一个级别作为合格判定依据,它适合平板样品进行评价;

2)称重判定法是通过对腐蚀试验前后样品的重量进行称重的方法,计算出受腐蚀损失的重量来对样品耐腐蚀质量进行评判,它特别适用于对某种金属耐腐蚀质量进行考核;

3)腐蚀物出现判定法是一种定性的判定法,它以盐雾腐蚀试验后,产品是否产生腐蚀现象来对样品进行判定,一般产品标准中大多采用此方法;腐蚀数据统计分析方法提供了设计腐蚀试验、分析腐蚀数据、确定腐蚀数据的置信度的方法,它主要用于分析、统计腐蚀情况,而不是具体用于某一具体产品的质量判定。


制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、

涂布法、液相生成法等。气相生成法又可分为物理的气相沉积法(简称PVD法)化学气

相沉积法和放电聚合法等。我们今天主要介绍的是物理的气相沉积法。由于这种方法基本都是处于真空环境

下进行的,因此称它们为真空镀膜技术。

而真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。


而真空镀膜设备首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜,详细包含许多品种,包含真空离子蒸腾,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射堆积等许多种。首要思路是分红蒸腾和溅射两种。

需求镀膜的被成为基片,镀的资料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。



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