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光刻胶是半导体工艺中最核心的材料,直接决定芯片制程,国内光刻胶产业和国外先进产品相差三四代。未来我国大力发展芯片事业,如果在光刻胶环节被国外企业“掐脖子”,那么花费近千亿的半导体产业投资都会受到极大的阻碍。所以半导体产业的发展离不开上游材料的配到,尤其是光刻胶这种关键材料,废钢回收加工,技术一定要自主研发才会不受制于人。

《国家集成电路产业发展推进纲要》,提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备,开发光刻胶、大尺英寸硅片等关键材料”;国家重点支持的高新技术领域(2015)中提到“高分辨率光刻胶及配套化学品作为精细化学品重要组成部分,是重点发展的新材料技术”;光刻技术(包括光刻胶)是《中国制造2025》重点领域。


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