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镀膜工艺

镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法，反光杯真空镀膜价格，镀膜方法有真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶等。下面说一下阴极真空磁控溅射法，通过磁控溅射，在浮法玻璃的表面镀一层或多层金属、或金属化合物薄膜。通过镀膜可以改变基片的某些属性，如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响： 

烘烤温度：真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气，这是保证膜色调纯正的重要因素之一。要注意的是，我们的设备一般采用加热棒烘烤，以热电偶测温，热电偶的感温端位置不能靠近发热棒，否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。

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磁控溅射：

原理：磁控溅射法被认为是镀膜技术中成熟的Zn0:A1薄膜制备方法，通常分为直流溅射（DC）和射频溅射（IC）两种。该方法是利用高能粒子轰击靶材，使得靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。

优点：以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到青睐，磁控溅射法可获得高度c轴取向，表面平整度高，可见光透过率较高及低电阻率Zn0:A1的薄膜。

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