气相沉积是一种在基体表面形成功能膜层的技术,它是利用物质在气相中产生的物理或(及)化学反应而在产品表面沉积单层或多层的、单质或化合物的膜层,从而使产品表面获得所需的各种优异性能。
气相沉积作为一种表面镀膜方法,其基本步骤有需镀物料气相化->输运->沉积。它的主要特点在于不管原来需镀物料是固体、液体或气体,在输运时都要转化成气相形态进行迁移,终到达工件表面沉积凝聚成固相薄膜。
真空镀膜设备PCVD技术具有沉积温度低,沉积速率快,绕镀性好,饰品真空镀膜设备,薄膜与基体结合强度好,设备操纵维护简单等优点,用PCVD法调节工艺参数方便灵活,轻易调整和控制薄膜厚度和成份组成结构,沉积出多层复合膜及多层梯度复合膜等膜,同时,硅胶真空镀膜设备,PCVD法还拓展了新的低温沉积领域,例如,用PCVD法可将TiN的反应温度由CVD法的1000℃降到200~500℃,用PCVD法制备纳米陶瓷薄膜的特点是:产品的杨氏模量、抗压强度和硬度都很高,耐磨性好,化学性能稳定,性和腐蚀性好,有较高的高温强度。
溅射是物理气相沉积技术的另一种方式,电子真空镀膜设备,有人要问了溅射工艺是怎么实现的呢?
溅射的过程是由离子轰击靶材表面,使靶材材料被轰击出来的技术。整个过程是在真空腔体中完成的。溅射开始时将气充入真空腔体中形成低压气氛围,新北真空镀膜设备,再通过使用高电压,产生辉光放电,加速离子到靶材表面。离子将靶材材料从表面轰击(溅射)出来,在靶材前面的被涂层工件上沉积下来,这整个过程就好像是在打台球。