离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，真空镀钛服务电话，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。


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溅射技术:

溅射技术按产生等离子体的方式可分为:

a. 利用直流辉光放电的二极溅射;

b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;

c. 利用射频放电的射频溅射;

d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.

2 磁控溅射阴极结构:

目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a)，一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b)，真空镀钛电话，两者相比，平面靶材的利用率只有20~30%，即利用率低.

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