关键字：硅磨片清洗剂；半导体工业用清洗剂；可清洗镜片的抗静电辐射洁净剂及其制备方法；
订购本套资料光盘请记录此编号：CC1009215
本套资料包括专利技术全文资料17份，全部包括在一张光盘内。本套资料共收费230元。
全国市区范围可免费货到付款。
订购电话：028-66923316-1(分机) 在线订购QQ:459046209
值班电话：18982190230/15328023369 （周一至周六18：00以后，周日及法定节假日全天）
以下所有技术资料集成在一张光盘内，是PDF格式的电子图书（非视频或录像)，光盘自带浏览器，所有Windows电脑均可查看，可以快递光盘也可以通过QQ、旺旺或电子邮件传送。化工、材料、医药类的资料包括原材料的配方配比，制造工艺，质量标准和工艺流程等，机械、设备、装置类的资料包括详细的设计方案，设计原理，附带有设计的结构原理图纸和图解说明，所有资料均包括技术发明人的姓名、联系地址、权利要求等信息，是企业和个人了解市场，开发技术、生产产品不可多得的参考资料。
光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示，我们仅列出前5项技术的摘要信息，更多信息将以光盘形式提供)：
技术编号 技术名称
(编号:CC1009215-0007-0001) 可清洗镜片的抗静电辐射洁净剂及其制备方法
[技术摘要] 可清洗镜片的抗静电辐射洁净剂及其制备方法，其特征是洁净剂按重量百分比的组成为：作为乳化剂的烷基酚聚氧乙烯醚OP-10或TX-10：2-10％、十二烷基**钠：0.5-5％、二甘醇：0.3-3％、季铵盐：0.002-0.3％、聚醚改性聚有机硅氧烷SF722或SF9090：0.001-3％、氯化钠：0.01-0.2％、异丙醇：2-15％、适量香精、余量为水。本发明洁净剂清洁效果好、不损伤镜片、具有防雾防静电功能、能广泛用于对包括**镜片、光学仪器、显示屏、仪器仪表外壳等在内的镜片进行清洗。
[技术摘要] 本发明公开了一种低蚀刻性光刻胶清洗剂，其特征是含有(a)季胺氢氧化物，(b)二**亚砜，(c)分子式如式I所示的烷基二醇芳基醚及其衍生物，(d)乙醇胺，(e)水，(f)缓蚀剂，式I中，R1
[技术摘要] 本发明公开了一种低蚀刻性光刻胶清洗剂，其含有：苯甲醇和/或其衍生物、季铵氢氧化物和二**亚砜。本发明的清洗剂可用于除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(光阻)和其它残留物，且同时对于二氧化硅、铜等金属和低k材料等具有较低的蚀刻速率，在半导体晶片清洗等*电子领域具有良好的应用前景。
[技术摘要] 硅片清洗剂及其制备方法，涉及光伏产业、硅片生产技术领域。主要由由椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚、焦磷酸钾、硼酸钠、氢氧化钾和水组成。本发明用少量的钾盐来代替钠盐增加其溶解度，并运用两种表面活性剂的复配，从而极大地提高其清洗性能。本发明不含任何有机溶剂，无任何*激性气味，工作液的pH值在9～11，并且清洗效率高，使用周期长，对硅片无**性等特点。本发明与传统的硅片清洗剂相比单位成本下降近60％。
[技术摘要] 本发明公开了一种低蚀刻性的光刻胶清洗剂，其特征在于含有：季胺氢氧化物，如式I所示的烷基二醇芳基醚或其衍生物，和如式II所示的苯乙酮或其衍生物；式I式II其中，R1
售后服务：
本部拥有85年至目前各行业的技术资料，实用技术，期刊论文，调研报告超过2000万项，凡购此套资料的客户，我们均免费更新至购买当日，因此你订购的资料条数会比你现在看到的更多，并且我们还将为你提供一年的免费更新服务。如果你在此没有找到你需要的技术资料，也请告诉我们，我们将根据你的需求为你量身订制。
如果你急需资料，可以向以下账户汇款，资料通过QQ、旺旺或电子邮件在线传送(光盘随后寄出)
中国工商银行 卡号：6222024402032882304 户名：游明洪
中国农业银行 卡号：9559980461253043214 户名：游明洪
中国建设银行 卡号：6227003812580604641 户名：游明洪
全国市区范围可免费货到付款。
订购电话：028-66923316 在线订购QQ:459046209
手机或短信订购：18982190230/15328023369 （周一至周六18：00以后，周日及法定节假日全天）
