磁控溅射镀膜靶材：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材。根据整理的数据显示，半导体行业2018年海外业务收入502亿，占半导体行业总营收1130亿元的约44.48%。由于高纯金属靶材制品技术难度大，需求量大而其资源又非常缺，因而要求金属的深加工技术朝高纯化、精细化、高率效的方向发展。高纯钽靶材和高纯铝靶的应用非常广泛。地球上50%-70%的钽以电容器级钽粉和钽丝的形式用于制作钽电容器。高纯铝工厂使用的联合法，就是以99.7%-99.9%的原铝为原料。先用三层电解法提纯到99.99%，而后通过偏析法可获得5N-6N或更高纯铝和超纯铝。实现半导体5N级超高纯铝溅射靶基材实现批量供应。国内已有企业具备联合法提纯5N(99.999%)及以上超高纯铝和高纯化熔炼铸造生产能力的企业。高纯镍金属靶材、镍铬合金靶材、氧化铝陶瓷靶材研发、生产、销售的高新技术企业，产品广泛应用于航空航天、化工设备、光学镀膜、等离子切割、非晶材料及硬质合金等领域。利用冷喷涂技术生产金属合金靶材。 广泛用于各类装饰镀膜，光学膜系，建筑汽车玻璃膜系，Low-E玻璃 不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。薄膜材料在半导体集成电路（VLSI）、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。