关键字：具有等离子体沉积金属碳化物涂层的刀头；

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光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示，我们仅列出前5项技术的摘要信息，更多信息将以光盘形式提供)：
         技术编号                             技术名称
(编号:CC1044747-0011-0001) 金属-氮化物薄膜的无胺沉积
[技术摘要] 一种用于形成金属碳化物层的方法，其**以提供衬底、有机金属前体材料、至少一种掺杂剂如氮气、以及等离子体如氢等离子体。所述衬底被放置在反应室内；并加热。从而进行工艺循环，其中所述工艺循环包括脉冲有机金属前体材料到所述反应室中，脉冲掺杂剂到所述反应室中和脉冲等离子体到所述反应室之中，从而所述有机金属前体材料、所述掺杂剂和等离子体在所述衬底的表面反应以形成金属碳化物层。所述工艺循环可以被重复和变化以形成分级的金属碳化物层。

(编号:CC1044747-0012-0002) 金属部件表面的纳米复合沉积层结构
[技术摘要] 本实用新型涉及金属部件表面的纳米复合沉积结构，其在金属部件表面沉积有纳米复合层；该纳米复合层分为连接层和纳米耐磨层，且连接层和金属机械部件表面相互嵌入，连接层和纳米耐磨层相互嵌入，形成离子键结合；所述的纳米耐磨层为纳米级金刚砂、纳米级碳化硅、纳米级的三氧化二铝之一或其组合与铬基或镍基材料的混合沉积层，表面具有纳米复合沉积结构的金属部件的耐磨、防腐、耐高温性能得到了有效地提高。

(编号:CC1044747-0004-0003) 一种凹印版及其制作方法和真空沉积镀膜装置
[技术摘要] 本发明公开了一种凹印版，该凹印版由凹印版金属基材以及镀膜层构成，其特征在于，所述镀膜层包括位于所述金属基材上部的至少两层由金属层和金属碳化物或氮化物层交替构成的基础镀膜层，以及位于所述基础镀膜层上部的具有亲水性能的表面镀膜层。其中，所述基础镀膜层的金属为Cr或Ti。本发明还进一步公开了制备上述凹印版的真空沉积制备工艺，以及制造上述凹印版的镀膜装置。与传统电镀工艺相比，采用真空沉积法制备印版表面的铬层可解决电镀工艺存在的环保问题；此外，该凹印版具有多个镀膜层且光洁度很高，具有良好的耐磨性和耐印量，且能节省油墨用量。