关键字：水基地板抛光剂用乳胶；抛光液和抛光有色金属材料的方法；聚酰亚胺抛光薄膜及其制备方法；木质地板、家具护理用的抛光剂组合物；一种合成树脂幕墙用弹性抛光腻子。

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光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示，我们仅列出前5项技术的摘要信息，更多信息将以光盘形式提供)：
         技术编号                             技术名称
(编号:CC1057788-0018-0001) 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
[技术摘要] 本发明涉及一种用于硫系化合物相变薄膜材料Gex

(编号:CC1057788-0039-0002) 用于改善的化学机械抛光的方法和设备
[技术摘要] 本发明公开了一种抛光垫，其包括在一侧具有粘附在其上的多孔浆液分布层而在另一侧具有可压缩下层的导板。穿过所述浆液分布层和所述导板彼此交叉从而相对彼此维持在平面取向的多个抛光元件和导板粘附于柔性的下层上，以及每个抛光元件在与所述浆液分布层相邻的所述导板的表面上方伸出。可选地，薄膜可设置于所述导板和所述浆液分布层之间。所述抛光垫还可包括磨损传感器以有助于确定垫磨损和寿命终点。

(编号:CC1057788-0031-0003) 不锈钢表面*弧氧化研磨抛光方法
[技术摘要] 本发明公开了一种不锈钢表面*弧氧化研磨抛光方法。该处理方法包括如下步骤：首先对不锈钢制品表面进行机械抛光，然后进行除油处理；对除油处理后的不锈钢制品进行清洗；将不锈钢制品置于电解质溶液中，接通正弦波换向电源，在20～35℃的温度条件下，利用正弦波换向电源所产生的正弦波*弧，增强并激活在阳极上的反应，从而在不锈钢制品表面形成一层强化氧化膜；然后将**了强化氧化膜的不锈钢制品进行清洗、干燥即可；本发明解决了以往不能在不锈钢表面(奥氏体及马氏体)进行*弧氧化的难题，大大提高了不锈钢的防护性能及应用领域。

(编号:CC1057788-0049-0004) 一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光液
[技术摘要] 本发明公开了一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光浆料，其含有：研磨颗粒、氧化剂、成膜剂、有机螯合剂、稳定剂和水。本发明的抛光液具有较高的Ta/TaN去除速率，可适应不同抛光步骤中对封盖材料(如TEOS)、绝缘层材料(如BD)和金属Cu的去除速率选择比要求，且可保*抛光后晶圆表面缺陷和污染物少，稳定性高。

(编号:CC1057788-0025-0005) 化学机械抛光浆液
[技术摘要] 本发明涉及一种化学机械抛光浆液，其包含抛光*粒、作为氧化剂的**铵，作为铜金属膜抛光促进剂的1，2，4-**和水，并且其pH为3至4。该抛光浆液适宜于形成波纹状的包含钽基金属作为阻挡层金属膜材料的铜基金属互连。

(编号:CC1057788-0051-0006) 抛光液供给控制装置
(编号:CC1057788-0026-0007) 钛及钛合金制品的等离子体抛光方法
(编号:CC1057788-0012-0008) 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
(编号:CC1057788-0011-0009) 一种浮法抛光液膜厚度测量装置
(编号:CC1057788-0042-0010) 氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法
(编号:CC1057788-0041-0011) 无锡自抛光防污漆
(编号:CC1057788-0021-0012) 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
(编号:CC1057788-0027-0013) 抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的溶胶-凝胶制备法