1.高纯氧化物薄膜材料（溅射靶材、颗粒、压片）

氧化物

一氧化硅SiO

二氧化铪HfO2

二氧化锆ZrO2

二氧化钛TiO2

OXIDE

一氧化钛TiO

二氧化硅SiO2

三氧化二钪Sc2O3

三氧化二钛Ti2O3

三氧化二铝Al2O3

五氧化二铌Nb2O5

五氧化二钽Ta2O5

五氧化三钛Ti3O5

三氧化二铟In2O3

二氧化铈CeO2

氧化镁MgO

氧化镨Pr6O11

三氧化钨WO3

氧化钐Sm2O3

氧化钕Nd2O3

氧化铋Bi2O3

氧化锑Sb2O3

氧化钒V2O5

氧化镍NiO

氧化锌ZnO

氧化铁Fe2O3

氧化铬Cr2O3

氧化铜CuO

2.高纯氟化物薄膜材料（颗粒、压片）

氟化物

氟化镁MgF2

氟化镱YbF3

氟化钇YF3

氟化镝DyF3

FLUORIDE

氟化钕NdF3

氟化铒ErF3

氟化钾KF

氟化锶SrF2

氟化钐SmF3

氟化钠NaF

氟化钡BaF2

氟化铈CeF3

3. 特种薄膜材料（溅射靶材、颗粒）——应用太阳能、半导体、磁性元件等，热压、热等静压粉末冶金溅射靶材

SrAl2O4

SrAlO4

SrHfO3

SrPrO3

SrZrHfO3

L5

ATO-HP or CIP

AZO-HP or CIP

钛酸镧LaTiO3

钛酸钡BaTiO3

钛酸锶SrTiO3

钛酸镨PrTiO3

冰晶石Na3AlF6

锥冰晶石Na5Al3F14

二钛酸镨Pr(TiO3)2

硫化锌ZnS

硫化镉CdS-HP

碲化镉CdTe-HP

铜铟镓硒CIGS-HP

锗锑碲GST-HP

硅钼合金MoSi-HP

二硫化钼MoS2-HP

二硫化钨WS2-HP

硅钛合金SiTi-HP

钨钛合金WTi-HP

硅铝合金SiAl-HP

钼铬合金 MoCr-HP

铝铬合金AlCr-HP

粉末冶金靶材种类繁多，以上列出有代表性材料，可根据要求定做。

4.高纯金属及合金材料（溅射靶材、颗粒）

铪靶Hf

锆靶Zr

钛靶Ti

铝靶Al

铬靶Cr

镁靶Mg

铜靶Cu

铁靶Fe

铌靶Nb

锡靶Sn

钨靶W

钽靶Ta

钼靶Mo

镍靶Ni

钴靶Co

钒靶V

铽靶Tb

钆靶Gd

镧靶La

铈靶Ce

钕靶Nd

镨靶Pr

金靶Au

银靶Ag

铂靶Pt

镍铬合金NiCr

镍钒合金NiV

锆钛合金ZrTi

铌锆合金NbZr

锌镉合金ZnCd